上海大直徑射頻離子源自主研發設計生產
【真空鍍膜機之鍍鋅工藝】在鋼鐵合金材料的表面鍍一層鋅以起美觀、防銹等作用的表面處理技術,表面的鋅層是一種電化學保護層,可以防止金屬腐壞,主要采用的方法是熱鍍鋅和電鍍鋅。適用材料:由于鍍鋅工藝依賴于冶金結合技術,所以只適合鋼和鐵的表面處理。工藝成本:無模具費用,周期短/人力成本中等,因為工件的表面質量很da程度上取決于鍍鋅前的人工表面處理。環境影響:由于鍍鋅工藝增長了鋼鐵件40-100年的使用壽命,很好的防止了工件的生銹和腐壞,所以對保護壞境有積極的作用。另外,鍍過鋅的工件在使用壽命到期后,可以重新送返鍍鋅槽,對液態鋅的反復利用不會產生化學或物理廢料。電子束蒸發真空鍍膜機是什么?上海大直徑射頻離子源自主研發設計生產
【真空鍍膜機清洗工藝之氮氣沖洗】氮氣在材料表面吸附時,由于吸附能小,因而吸留表面時間極短.即便吸附在器壁上,也很容易被抽走。利用氮氣的這種性質沖洗真空系統,可以dada縮短系統的抽氣時間。如真空鍍膜機在放入da氣之前,先用干燥氮氣充入真空室沖刷一下再充入da氣,則下一抽氣循環的抽氣時間可縮短近一半,其原因為氮分予的吸附能遠比水氣分子小,在真空下充入氮氣后,氮分子先被真空室壁吸附了。由于吸附位是一定的,先被氮分子占滿了,其吸附的水分子就很少了,因而使抽氣時間縮短了。如果系統被擴散泵油噴濺污染了,還可以利用氮氣沖洗法來清洗被污染的系統.一般是一邊對系統進行烘烤加熱,一邊用氮氣沖洗系統,可將油污染消除。陜西離子束刻蝕射頻離子源生產廠家真空鍍膜機的產業集群。
【真空鍍膜機清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源,在其相對于待清洗的表面加負偏壓可以實現離子轟擊的氣體解吸及某些碳氫化合物的去除。清洗效果取決于電極材料、幾何形狀及其與表面的關系。即取決于單位表面積上的離子數和離子能量,從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當分壓力的惰性氣體(典型的如Ar氣),可以利用兩個適當的電極間的低壓下的輝光放電產生的離子轟擊來達到清洗的目的。該方法中,惰性氣體被離化并轟擊真空室內壁、真空室內的其它結構件及被鍍基片,它可以使某些真空系統免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣,對某些碳氫化合物可以獲得更好的清洗效果。因為氧氣可以使某些碳氫化合物氧化生成易揮發性氣體而容易被真空系統排除。不銹鋼高真空和超高真空容器表面上雜質的主要成分是碳和碳氫化合物。一般情況下,其中的碳不能單獨揮發.經化學清洗后,需要引入Ar或Ar+O2混合氣體進行輝光放電清洗,使表面上的雜質和由于化學作用被束縛在表面上的氣體得到qing除。
【真空鍍膜機常見故障之旋片泵故障及處理方法】1、未做保養導致灰塵太多。真空鍍膜設備在鍍膜過程中容易產生da量灰塵,這些灰塵伴隨空氣容易混雜到泵油中,時間久了容易對轉子及泵腔造成磨損及破壞。處理方法:如果灰塵不多,可以油過濾系統除掉灰塵;如果灰塵過多可以用除塵器配合油過濾系統除掉灰塵。2、旋片式真空泵冒煙和噴油:指旋片式真空泵在運轉中排氣口冒煙或者噴油,冒煙。處理方法:冒煙闡明泵的進氣口外,包括管道、閥門、容器有修理的狀況。3、噴油,闡明進氣口外有da量的漏點,以至是進氣口暴露da氣。處理方法:封住泵的進氣口使泵運轉,假如不噴油的話,闡明有漏點;排氣閥片損壞,檢查排氣閥片能否損壞,改換壞的排氣閥片。4、被抽氣體的溫度可能過高。處理方法:降低被抽氣體的溫度,或能夠加一個相應的換熱器。5、配合的間隙改da。這是長期被抽氣體內含有粉塵等,形成旋片和定子之間磨損后的間隙增da。處理方法:檢查間隙能否過da,改換新的零部件。6、泵內的油路不通或者不暢,泵腔內沒有堅持一定量的油量。處理方法:檢查油路能否暢通,并加同類型的真空泵油。真空鍍膜機是什么樣的?
【真空鍍膜機概述】:真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空電阻加熱蒸發,電子搶加熱蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積,離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。真空鍍膜機構造的五da系統:排氣系統、控制系統、蒸鍍系統、監控系統、輔助系統。真空鍍膜三要素:真空度、抽氣時間、溫度;任何鍍膜工藝都需要為這三個要素設定目標值;因此,只有當三個條件同時滿足時,自動化程序才會自動運行。真空鍍膜機需要做定期定期保養,目的在于:讓鍍膜機能長時間地正常運轉;降低故障時間,避免影響產能,減少損失;提高機器精度,穩定品質;加快抽氣速度,提升機器利用率等。真空鍍膜機大概多少錢一臺?重慶真空鍍膜射頻離子源源頭實力廠家
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【真空鍍膜機清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源,在其相對于待清洗的表面加負偏壓可以實現離子轟擊的氣體解吸及某些碳氫化合物的去除。清洗效果取決于電極材料、幾何形狀及其與表面的關系。即取決于單位表面積上的離子數和離子能量,從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當分壓力的惰性氣體(典型的如Ar氣),可以利用兩個適當的電極間的低壓下的輝光放電產生的離子轟擊來達到清洗的目的。該方法中,惰性氣體被離化并轟擊真空室內壁、真空室內的其它結構件及被鍍基片,它可以使某些真空系統免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣,對某些碳氫化合物可以獲得更好的清洗效果。因為氧氣可以使某些碳氫化合物氧化生成易揮發性氣體而容易被真空系統排除。不銹鋼高真空和超高真空容器表面上雜質的主要成分是碳和碳氫化合物。上海大直徑射頻離子源自主研發設計生產
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